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TiN/Si_3N_4复合材料的磁控溅射制备及其电性能研究
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| 【文章作者】王守兴;康立敏;王再义;魏美玲;何子臣; |
| 【文章摘要】 利用直流反应磁控溅射法在Si3N4陶瓷基体上制备了TiN导电薄膜。采用X射线衍射仪(XRD)、扫描电镜(SEM)和电子能谱(EDS)对薄膜的物相组成以及表面形貌进行分析,表明TiN薄膜均匀,且与基体有较强的附着力。采用SZ82型四探针测试仪对薄膜进行了方阻随厚度变化的分析,表明薄膜的厚度对薄膜的电性能有很大的影响。 |
| 【关 键 字】TiN;;Si3N4;;厚度;;方阻 |
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【期刊】现代技术陶瓷【卷】【ISSUE】【ISSUEID】
【文章期份】2015
【发布日期】2015/4/2 0:00:00
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