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TiN薄膜沉积条件对组织结构和结合力的影响
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| 【文章作者】肖娜;杜菲菲;邢韵; |
| 【文章摘要】 在不同沉积时间和基板温度下,采用反应磁控溅射的方法在Ti6Al4V基板上沉积Ti N薄膜,溅射过程中固定溅射总压、溅射功率、氮氩流量比等沉积条件.利用XRD、SEM分别研究了薄膜的微观结构和表面、截面形貌,利用显微硬度仪和划痕仪分别测量了薄膜的硬度和膜基结合力.研究结果表明:随着沉积时间的增加,薄膜硬度和膜基结合力均有增大趋势;随着基板温度的升高,Ti N薄膜择优取向由(111)转向(200)晶面,表面形貌由三角锥转变为片层状,硬度和膜基结合力均呈现升高趋势. |
| 【关 键 字】反应磁控溅射;;TiN薄膜;;沉积时间;;基板温度;;结合力 |
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【期刊】材料与冶金学报【卷】【ISSUE】【ISSUEID】
【文章期份】2015
【发布日期】2016/1/8 0:00:00
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