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沉积温度对AZO薄膜性能的影响
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| 【文章作者】李晓东;邵世强; |
| 【文章摘要】 在采用直流磁控溅射制备AZO(Aluminum Doped Zinc Oxide,掺铝氧化锌)薄膜的过程中,AZO薄膜的光电性能取决于镀膜过程中的各种工艺参数,包括溅射气压、沉积温度、溅射功率和靶基距等。本文主要研究在固定其它工艺参数不变的情况下,通过改变沉积温度在不同的温度下分别制备AZO薄膜,利用SEM、X射线衍射仪等测试不同AZO薄膜的微观结构,并分析研究不同沉积温度下制备AZO薄膜光电性能及结构的变化特性,以筛选出制备高质量AZO膜的最佳沉积温度。 |
| 【关 键 字】AZO薄膜;;磁控溅射;;沉积温度;;性能;;微观结构 |
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【期刊】【卷】【ISSUE】【ISSUEID】
【文章期份】2016
【发布日期】2016/3/15 0:00:00
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